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真空鍍膜機真空鍍膜的主要特(tè)點

返回列表 來源: 發布日期:2022-08-20

(1)成膜溫度低。鋼(gāng)鐵行業中的熱(rè)鍍鋅鍍(dù)膜溫度一般(bān)是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易(yì)引起被鍍件的變形、變質,而真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避(bì)免了常規鍍膜工藝的弊端。
  (2)蒸發源選擇自由度大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限製,可鍍種類眾多的(de)金屬氮化膜,金(jīn)屬(shǔ)氧化膜和金屬炭化物及各種複合膜。
  (3)不使用有害氣體、液體,對環境無不(bú)利影響。在當前(qián)越來越重視環(huán)保的(de)大趨勢下,這點極其(qí)可貴。
  (4)帶鋼鍍膜質量(liàng)好。能(néng)獲得均勻、平滑且極(jí)薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和(hé)附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點、鋅浪(làng)、鋅花等問題。
  (5)工藝靈活,改變品種方便。可鍍單麵、雙麵和單層、多層及混合層。鍍膜厚(hòu)度易於控(kòng)製。
  標簽;真空鍍膜電源

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