為大家介紹（shào）真空鍍膜應用的主要幾種方（fāng）法

真空（kōng）鍍膜應用，簡單地理解就是（shì）在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨後（hòu）凝（níng）結的辦法（fǎ），在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對於傳（chuán）統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬於一種幹式鍍膜，它的主要方法包括以下幾（jǐ）種：
　　真空蒸鍍
　　其原理是在真（zhēn）空條（tiáo）件下，用蒸發器加（jiā）熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接（jiē）射向基片，並在基片上沉積析出固態（tài）薄膜的技術。
　　濺射鍍膜
　　濺射鍍膜是真空條（tiáo）件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放（fàng）電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出（chū）的原子通過惰性氣氛沉積（jī）到基片上形成（chéng）膜（mó）層。
　　離子鍍膜
　　即幹式螺杆真空泵廠家已經介紹過的真空離（lí）子鍍膜（mó）。它（tā）是在上麵兩種真（zhēn）空（kōng）鍍（dù）膜技術基礎上發展（zhǎn）而來的（de），因此兼有兩者（zhě）的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發（fā）物質（膜材）部分離化，並在離子轟（hōng）擊下，將蒸發物或其反（fǎn）應（yīng）物沉（chén）積在基片表麵。在膜的（de）形成（chéng）過程中，基片（piàn）始終受到高能（néng）粒子的轟擊，十分清潔。
　　真空卷繞鍍（dù）膜
　　真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基（jī）體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的（de）一些功能（néng）性、裝飾性屬性。
　　標簽;真（zhēn）空鍍膜電源