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直(zhí)流磁(cí)控濺射電源技術創新引領薄膜製備新紀元

近日(rì),直流(liú)磁控濺射電源技術在薄膜製(zhì)備領域取得了重大突(tū)破,其高效、穩定、精準的性能特(tè)點引起了業界的廣泛關注。作為鍍膜技術中的(de)重要(yào)設備,直流磁控濺射電源(yuán)以(yǐ)其(qí)獨特的優勢,正在逐步改(gǎi)變薄膜製備的傳統格局,引…

真空鍍(dù)膜機真空鍍膜的主要特點

(1)成膜溫度低。鋼(gāng)鐵行業中的熱(rè)鍍鋅(xīn)鍍膜(mó)溫度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫(wēn)度很容易引起被鍍件的變形、變質,而真空鍍膜的溫(wēn)度(dù)低,可以降到常溫,避免了…

真空鍍膜的主要(yào)特(tè)點有哪些呢?

真空鍍膜機帶鋼真空鍍膜是一個集冶金、真空、化學、物理等學科於一體的高新技術,其產品具有高(gāo)附加值(zhí),既有帶鋼的強度和廉價的(de)特點   (1)成膜溫度低。鋼鐵行(háng)業中的熱鍍鋅(xīn)鍍膜溫度一般是4…

多弧鍍膜電源具備(bèi)的(de)優勢有(yǒu)哪(nǎ)些呢?

所謂多弧離子鍍(dù)膜機就是用多個電弧蒸發源為核心的一種離子鍍(dù)膜(mó)設備,通常又叫多弧鍍膜(mó)、弧鍍、電弧鍍膜等。相較於其他鍍(dù)膜(mó)工藝,它具備的優勢有(yǒu):   機械整體簡單、設備生產效率(lǜ)高、工作(zuò)周期短、…

了解(jiě)一下真空鍍(dù)膜和光學鍍膜有什(shí)麽區別

一、概念的區別   1、真空鍍膜是指在高真空(kōng)的條件下加熱(rè)金屬或非金屬材料,使其(qí)蒸發並凝結於(yú)鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成(chéng)薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。   2、…

給大(dà)家分享真空鍍膜電源簡單的操作方(fāng)法

隨著真空鍍膜(mó)設備(bèi)的工藝發(fā)展不斷的創新,硬質薄膜的設計也向著多元化、多膜化的方向發(fā)展,至今已經是現代企業首選的鍍膜工藝。其實鍍膜機的正常操作(zuò)方法應(yīng)該參考操作手冊的指示操作   1、檢(jiǎn)查真…

電弧蒸發源和多(duō)弧離子鍍膜機的優勢有哪些(xiē)

多弧離子鍍膜機的核心技術是(shì)它的電弧蒸發源,多弧離子鍍膜機的蒸發源是一種比較特殊的冷陰極電弧放電的自蒸(zhēng)發、自電離式的一(yī)種固體型蒸發源。   所謂多弧(hú)離子鍍膜機就是(shì)用(yòng)多個電弧蒸發源為核心的一…

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