磁控濺射（shè）是物（wù）理氣（qì）相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,磁控濺射通過在靶陰極表（biǎo）麵引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺（jiàn）射率。 　　…

　　高精（jīng）度真空鍍膜裝置，抽真空裝置包括真空泵（bèng）和真空壓力傳感（gǎn）器（qì），真（zhēn）空壓（yā）力（lì）傳感器設置於中央真空室內（nèi）；新型高精度真空鍍膜裝置提高了（le）鍍膜厚度控製精度，提高了產品加工工藝（yì）的重複（fù）性。 　　真空鍍膜（mó）是一種由物理…

“磷酸鐵（tiě）鋰電池”，可以支持大電流充電，配上大（dà）電流輸出的充電器就湊出這麽個秒衝的（de）產（chǎn）品了。 　　專利也隻查到一個201410693354.9，雖然是發（fā）明專利，但（dàn）是P的價值，業內非（fēi）常通用的電路設計，居然…

離子鍍是真空室中，利用（yòng）氣（qì）體（tǐ）放（fàng）電或被蒸發物質部（bù）分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積（jī）在基片上。離子鍍把 輝光放電現象、 等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起（qǐ）來（lái），不僅能明…

　　磁控濺射包括很多種類。各有不同工作（zuò）原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與（yǔ）電場（chǎng）交互（hù）作用，使電（diàn）子在靶（bǎ）表麵附近成螺旋狀（zhuàng）運行，從而增大電子撞擊氬（yà）氣產生離子的概率。所產生的離（lí）子在電場作用下撞向靶麵從而濺（jiàn）…

　　離子源：氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞，帶（dài）電粒子束使工作物質濺射以及表麵電離過程都能產生離子，並（bìng）被引出成束。根據不同的（de）使用條（tiáo）件和用途（tú），已研製出多種類型的離子源（yuán）。使用較廣泛的有弧放（fàng）電離…

　　電子在電場的作用下加速（sù）飛向基片的過程中與（yǔ）氬原子（zǐ）發生碰撞，電離（lí）出（chū）大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用（yòng）下加速（sù）轟擊靶材，濺射出大量（liàng）的靶材（cái）原子，呈中性的靶原（yuán）子（或分子）沉積在基片上成膜（mó）。…