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真空鍍膜是(shì)真(zhēn)空應(yīng)用領域的(de)一個突破性技術,利用物理或者(zhě)化學方法並吸收(shōu)一係列新技術而成的工藝,目的就是為了在實際生產中為(wéi)產品創造薄膜保護層。工藝主要分(fèn)為真(zhēn)空蒸鍍、磁控(kòng)濺射鍍膜、離子鍍(dù)三種。
為什麽需要進行(háng)真空鍍膜呢?這項(xiàng)工藝已經成(chéng)為了電子元器件製造中的一項不可或缺的技(jì)術,主要(yào)是為了(le)使產品表麵具有耐磨損(sǔn)耐高(gāo)溫,耐腐蝕等優於產品本身的性(xìng)能,從而提高產品的質量,延長加工產品的使用(yòng)壽命,不僅如此,還(hái)可以節約能源,獲得更為(wéi)顯(xiǎn)著的技術經濟效益。
實際應用中(zhōng),菠萝视频往往會根據(jù)產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射(shè)鍍主(zhǔ)要(yào)用於(yú)金屬產品,蒸發鍍主要用於塑膠(jiāo)產品,光學離子鍍(dù)主要用於璃玻產品
標簽:真空鍍膜電源