為大家介紹真空鍍膜應用（yòng）的主要幾種方法（fǎ）

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包（bāo）裝、機械（xiè）以及表麵處理技術（shù）等眾多方麵有著十（shí）分廣（guǎng）泛的應用。

　　真空蒸鍍

　　其原理是在真空條件下，用蒸發器加（jiā）熱帶蒸發（fā）物質，使（shǐ）其氣（qì）化或升華，蒸發離子流直接射向（xiàng）基片（piàn），並在（zài）基片上（shàng）沉積析出固態薄膜的技術。

　　濺射鍍膜

　　濺射鍍膜是真空條件（jiàn）下，在陰極（jí）接上2000V高壓電，激發（fā）輝光放（fàng）電（diàn），帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺（jiàn）射出的原（yuán）子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

　　離子鍍膜

　　即幹式螺杆真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上麵兩種（zhǒng）真空鍍膜技術基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在（zài）真空條件下，利（lì）用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質（zhì）（膜（mó）材）部分離化，並在離子轟擊（jī）下，將蒸發物或（huò）其反應物沉（chén）積在基片表麵。在（zài）膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分（fèn）清（qīng）潔。

　　真空（kōng）卷繞（rào）鍍膜

　　真空卷繞鍍膜是一種（zhǒng）利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜（mó）的（de）技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

　　標簽：真（zhēn）空鍍膜電源