為大家介紹真（zhēn）空鍍膜應用的主要幾種（zhǒng）方法

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在（zài）真空（kōng）環境下，利用蒸（zhēng）鍍、濺射以及隨後凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶（táo）瓷、半導體以及塑（sù）料件等物體上鍍上金屬薄膜或（huò）者是覆蓋層。相對於傳統鍍膜方式，真空鍍膜應（yīng）用（yòng）屬於（yú）一種幹式鍍膜，它的主要方法包括（kuò）以下幾種：

　　真空蒸鍍

　　其原理是在真空條件（jiàn）下（xià），用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，並在基片上沉積析出固態薄膜的技術。

　　濺射鍍膜

　　濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高（gāo）壓電，激發輝光放電，帶正（zhèng）電（diàn）的氬離子（zǐ）撞擊陰極，使（shǐ）其射出原子，濺射（shè）出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成（chéng）膜層。

　　離子鍍膜

　　即幹式（shì）螺杆真空泵廠家已經介紹過的（de）真空離子鍍膜。它是在（zài）上麵兩種真空（kōng）鍍膜技（jì）術基礎上發展而來的（de），因此兼有兩者的工藝特點（diǎn）。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質（膜材）部分離化，並在離子轟擊（jī）下，將蒸發物或其（qí）反應物沉積（jī）在基片表麵。在膜的形成過程中，基片始終（zhōng）受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

　　真（zhēn）空卷繞鍍膜

　　真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積（jī）的方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔（róu）性基體的一（yī）些功能性、裝飾性屬性。

　　標簽:真空鍍膜電源