電弧蒸發源和多弧離子鍍膜機的優勢有哪些

      多弧離子鍍膜（mó）機的核心技術是它的（de）電弧蒸發源，多弧離子鍍膜機的蒸發源是一種比較（jiào）特殊的冷陰極電弧放（fàng）電的自蒸發（fā）、自電離式的一種固體（tǐ）型蒸發源。

　　所謂多弧（hú）離子鍍膜機就是用多個電弧蒸發源為核心的一種離子鍍膜設備，通常又叫多弧（hú）鍍膜、弧鍍、電弧（hú）鍍膜等（děng）。相較於其（qí）他鍍膜（mó）工藝，它具備的優勢有：

　　機（jī）械整體簡單、設備生產效率高、工作（zuò）周期短、適（shì）合大批量的工業化生產。

　　較大的鍍膜空間。 電弧蒸發源為固態，可靈（líng）活放置，所以工件在裝（zhuāng）卡更（gèng）換時（shí）更加簡單，無需附加加熱器使用。

　　工藝範（fàn）圍廣。適合在較高真空或較低環境溫度（200?C）下做反應鍍、離子鍍。

　　具備優異的膜（mó）性能（néng）。工件的轟擊加熱、清潔和沉積交由（yóu）離化（huà）金屬等離子體轟擊完成，實現“一弧三用”，且膜層結構致密性高，膜層與鍍件（jiàn）牢固結合（hé）。

　　標簽：多弧電源線路板