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1、真空室
塗層設備(bèi)主要有連續塗層生產線及(jí)單(dān)室(shì)塗層機兩種形(xíng)式(shì),不鏽鋼材料(liào)製造、氬弧焊接、表麵(miàn)進行化學拋(pāo)光處理,真空(kōng)室組件上焊有各種(zhǒng)規格的(de)法蘭接口。
2、真空獲得部分
在真空技術中,真空獲得(dé)部分是重要組(zǔ)成部分。真空的獲得(dé)不是一種真空設備和方法所能達到的(de),必須(xū)將(jiāng)幾種泵聯合使用,如機械泵、羅茨泵、分子(zǐ)泵(bèng)係統等。
3、真空測量部(bù)分
真空(kōng)係統的真空測量部分,就是要對真空室內的壓強進行測量。像真空泵一(yī)樣,沒有一種真空計能(néng)測量整個真空範圍,人們於是按(àn)不同的原理和要求製成了許多種類的真(zhēn)空計。如熱偶(ǒu)計,電離計,皮(pí)拉尼計等。
4、電源供給(gěi)部分
靶(bǎ)電(diàn)源主要有直流電源、中頻電源、脈衝電源、射頻電源(RF),常(cháng)見的電源廠商有AE,ADL,霍廷(tíng)格等。
5、工藝(yì)氣體輸(shū)入係統
工藝氣體,如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(wán)(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一般均由氣瓶供應,經氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥,然後通(tōng)入真空室。這種氣體輸入係統的優(yōu)點是,管路簡捷、明快,維修或更換氣瓶容易(yì)。各塗層機之間互不(bú)影(yǐng)響。也有多台塗層機(jī)共用一組氣瓶的情況,這種情況在一些規模較(jiào)大的塗層車間可能有機會看到。它的好處是,減少氣瓶(píng)占用量,統一規劃、統一布局。缺(quē)點是,由於接頭(tóu)增多,使漏氣機會增加。而且,各塗層機之間會互相幹擾,一(yī)台塗層(céng)機的管路漏氣,有可能會影(yǐng)響到其(qí)他塗層機(jī)的(de)產品(pǐn)質量。此外,更換氣瓶時,必須保證所有機台都(dōu)處於非用氣狀態。
6、機械傳(chuán)動部分
塗層要求周邊必須厚度均勻一致,因此(cǐ),在塗(tú)層過程中須有(yǒu)三個轉動量才能滿足(zú)要求。即在要求大工件(jiàn)台轉動(I)的同時,小的工件承載台也轉動( II),並且工件本身還能同時自(zì)轉(III)。在機(jī)械設計上,一般是在大工件轉盤底部中央為一大的主(zhǔ)動齒輪,周圍是一(yī)些小(xiǎo)的星行輪與之齧合,如果要實(shí)現產品自(zì)轉的話,一般(bān)用撥叉(chā)撥動(dòng)工件自轉。
7、加熱及測溫部分
塗層設(shè)備一般有不同位置的(de)加熱器,用熱電偶測控溫度。但是(shì),由於熱(rè)電偶裝夾的位置與工件(jiàn)位置不同(tóng),溫度讀數不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的(de)真實溫度,有很多方法,可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。
8、離子蒸發及濺射源
多弧(hú)鍍的蒸發源(yuán)一般為圓餅形,俗稱圓餅靶,也有長方形的多弧靶。靶座中裝(zhuāng)有磁鐵,通過前(qián)後移動(dòng)磁鐵,改變磁場強度(dù),可調整(zhěng)弧斑移動速度(dù)及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度,要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證(zhèng)靶與靶座之(zhī)間的高導電、導熱性,還可以在靶與靶座之間加錫墊(diàn)片。磁控濺射鍍膜(mó)一般采用長方形或圓(yuán)柱(zhù)形濺射陰極。
9、水冷係統
一般由冷水塔,冰水機,水泵等組成(chéng)。
10、工控(kòng)係統
標簽:多弧鍍(dù)膜電源
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