真空鍍膜設（shè）備由哪些（xiē）部分構成

真空鍍膜機是目前製作真空（kōng）條件（jiàn）應用為廣泛的設備，目前生活中使用到的物品都離不開真空鍍（dù）膜行業（yè）。
　　但是許多人都不知道真空鍍膜的主要構成部分，接下來讓菠萝视频一起來認識一下真空鍍膜機的主要構成部分。其中有：真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入係統、機械傳動部分、加（jiā）熱及測（cè）溫部分、離子蒸發及濺射源、水（shuǐ）冷係統。
　　1、真空室（shì）
　　塗層設備主要有連續塗層生產線及單室塗（tú）層機兩種形式，不鏽鋼材料製造、氬弧焊接、表麵進行化學拋光處理，真（zhēn）空室組件上焊有各種規格的法蘭接口。
　　2.真空獲得部分
　　在真空技術（shù）中，真空獲得部分是重要組（zǔ）成部分。真空的獲得不（bú）是一種真（zhēn）空（kōng）設備和方法所（suǒ）能達到的，必須將幾種泵聯合（hé）使用，如機械泵、羅茨泵、分子泵係（xì）統等。
　　3.真空測量部分
　　真空（kōng）係統的真空（kōng）測量部分，就是要對（duì）真空室（shì）內的（de）壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空範圍，人們於是按不同的原理和要（yào）求製成了許多種類（lèi）的真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等等。
　　4.電源供給部（bù）分（fèn）
　　靶（bǎ）電源主要有直流電源、中頻電源、脈衝電源、射頻電源（yuán）(RF)，常見的（de）電源廠商有AE,ADL,霍廷格等
　　5.工藝氣體輸入係統
　　工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙（yǐ）炔（quē）(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣（qì）(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應，經氣（qì）體減壓閥、氣體截止閥（fá）、管路、氣體流量（liàng）計、電磁閥、壓（yā）電閥，然後通入真空（kōng）室。這種氣體輸入係統的優點是，管路（lù）簡捷、明（míng）快，維修或更換氣瓶容易。各塗層（céng）機之間互不影響。也有多（duō）台塗層機共用一組氣瓶的情況，這種情況在一（yī）些規模較大的塗層車間可能有機會看到（dào）。它的好處是，減少氣瓶占用量，統（tǒng）一（yī）規劃（huá）、統一布局。缺點是，由於接頭增多，使漏氣機會增加（jiā）。而且，各塗層機之間（jiān）會互相幹擾，一台塗層機的管路漏氣，有（yǒu）可能會影響到其他（tā）塗層機的產品質量。此外，更換氣瓶時，必須保證所有機（jī）台（tái）都處於（yú）非（fēi）用（yòng）氣狀態（tài）。
　　6.機械傳動部分
　　塗層要求周邊必須（xū）厚度均勻一致，因此，在塗層過程（chéng）中須有三個轉動量才能滿足要求。即在要求大工件台轉動(I)的同時，小的工件承載（zǎi）台（tái）也轉動( II),並且工件本身（shēn）還能同（tóng）時自轉（zhuǎn）(III)。在機械設計上（shàng），一般是（shì）在大工件轉盤底（dǐ）部（bù）中央為一大的主動齒輪（lún），周圍是一些小的星行（háng）輪與之齧合，如果要實現（xiàn）產品自轉的話，一般用撥（bō）叉撥（bō）動工（gōng）件自轉。
　　7.加熱及測溫部分
　　塗層設（shè）備一般有不同（tóng）位置的加熱器，用熱電偶測控溫度。但是，由於熱電偶裝夾的（de）位置與工件位置不（bú）同，溫度讀數不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的真實溫度，有很多方法，可（kě）以在工件上裝高溫試紙或熱（rè）偶計。
　　8.離子（zǐ）蒸發及濺射（shè）源
　　多弧鍍的蒸發源（yuán）一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶（bǎ）。靶座中裝有磁鐵，通過前後（hòu）移動磁鐵，改變磁場強度，可調整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及（jí）靶座的溫度，要給靶座（zuò）不斷通入冷（lěng）卻水。為了保證靶與靶座之間的高導電、導熱（rè）性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。
　　9.水冷係統
　　一般由（yóu）冷水塔，冰水（shuǐ）機，水（shuǐ）泵等組成。
　　真空鍍膜機都離不開以上的（de）任何一個零件，有這些零件一台真空鍍膜機才算完整，才能正常的運（yùn）行。
　　標（biāo）簽;真空（kōng）鍍膜電源