真空鍍（dù）膜技（jì）術對設備（bèi）有哪些基本（běn）的（de）技術要求？

真空鍍膜技術菠萝视频都不陌生，真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板於真空室內，采用一定（dìng）方法（fǎ）加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行濺射到（dào）被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝。

真空鍍膜電（diàn）源（yuán）：

　　1、設備中的真空管道（dào）、靜態密封零部件（jiàn）（法蘭、密封（fēng）圈等）的結構（gòu）形式，應符合GB/T6070的規定。

　　2、在低真（zhēn）空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規（guī）管，分（fèn）別測量各部位的真（zhēn）空度（dù）。當發現電場對測量造成幹擾時，應在測量口處安裝電場屏（píng）蔽裝置。

　　3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口（kǒu）一側裝設有油蒸（zhēng）捕集阱（jǐng）

　　4、設備的鍍膜室應（yīng）設有觀察窗，應設有擋板裝（zhuāng）置。觀（guān）察（chá）窗應（yīng）能觀察到沉（chén）積源的工作情況以及其他關（guān）鍵部位。

　　5、離（lí）子鍍沉積源（yuán）的（de）設計應盡可能提（tí）高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配（pèi）沉（chén）積源的功率，合理布置沉積（jī）源在真空室體的位置。

　　6、合理布置加熱裝置（zhì），一般加熱器結構布局應使被鍍（dù）工（gōng）件溫升均勻一（yī）致。

　　7、工件架（jià）應與真（zhēn）空室（shì）體絕緣，工（gōng）件架（jià）的設計應使工件膜（mó）層均勻。

　　8、離（lí）子鍍膜設備一般應具有工件（jiàn）負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應（yīng）具有抑製非正常放電裝置，維持工作穩定。

　　9、真空室接（jiē）不同電（diàn）位的各部分間的絕緣電阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4、4、6

標簽：真空鍍膜電源